提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法（关于提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法简介）

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1、 《提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法》是中国科学院上海光学精密机械研究所于2011年4月15日申请的专利，该专利的公布号为CN102191475A，申请号为2011100946607，授权公布日为2011年9月21日，发明人是朱美萍、易葵、邵建达、范正修。

2、 《提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法》包括：（1）镀膜前向计算机输入镀膜参数：（2）通过计算机计算选择满足限制条件的监控波长λ和监控片数目，其中λMin＜λ＜λMax，得到一个与所镀膜系的镀膜监控表，包括所镀膜系按顺序的膜层、相应的监控波长和监控片序号；（3）镀膜等步骤。本发明能够自动选择监控波长和所需的最少监控片数目，采用比例式膜厚监控方法，减少了膜厚监控误差，提高了膜厚监控精度，可对规整膜系和非规整膜系进行监控。在膜厚监控系统控制精度不变的情况下，可有效地提高了薄膜的光谱性能。 

3、 2018年12月20日，《提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法》获得第二十届中国专利优秀奖。 

4、 （概述图为《提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法》摘要附图 ）

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