掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则（关于掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则简介）

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1、 《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则(GB/T 16879-1997)》等同采用1994年SEMI标准版本“微型构图”部分中的SEMI P21—92《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》（Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment）。

2、SEMI标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准。

3、SEMI P21—92《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》是其中的一项，它将与已经转化的SEMI P1—92《硬面光掩模基板》、SEMIP2—86《硬面光掩模用铬薄膜》、SEMI P3—90《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子抗蚀剂》、SEMI P4—92《圆形石英玻璃光掩模基板》、SEMI P6—88《光掩模定位标记规范》及SEMI P19—92《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》和SEMI P22—93《光掩模缺陷分类和尺寸定义的指南》两项SEMI标准形成一个微型构图标准系列。

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